Nou 美國 Veeco - TEM鍍HfO機
美國 Veeco - TEM鍍HfO機
Veeco (Cambridge Nanotech)，2003年成立於哈佛大學，05年搬到Boston並生產Thermal ALD - Savannah，之後生產Plasma ALD – Fuji、大量生產ALD-Phoenix。 2017年被Veeco收購，並更新了Fiji XT。至今為止，Veeco在ALD設備已有十多年經驗，全球已安裝五百多台ALD設備。

美国 Veeco

TEM鍍HfO機

 

 

應用於TEM樣品製備
由於原子層沉積的保形性特性，可以在複雜圖形的表面完整且緻密的生長厚度僅僅十幾甚至幾個奈米的薄膜，非常適合用於TEM原子序數襯度薄膜。

     

 

 

部分有機物基板，例如光阻，不能耐受高溫，需要在低溫下沉積薄膜。 Savannah和Fiji均具備在低溫下沉積薄膜並保證品質的優異特性

HfO2 Process Window – Hf(NMe2)4

使用Savannah 100 or S200 沉積HfO2 用於TEM，溫度範圍在60-150ºC
針對200mm基板，不均勻性<1.5%

Test Case:  TEMAH delivery at 28°C with LVPD Kit

 

 

200°C Process Recipe
H2O (0.015s pulse, 5s purge)
TEMAH (6s pulse, 5s purge, 28°C)
PTEMAH vapor = ~0.01Torr
Film Uniformity
200mm Std Dev(1-sigma) < 4%
 
如果使用LVPD附件，可以在室溫下沉積HfO2

 

美國 Veeco - TEM鍍HfO機

  • 品 牌 Veeco
  • 型 號 Veeco USA - Atomic Layer Deposition Systems
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