繁體
簡體
Eng
Teltec-Taiwan
Teltec-HongKong
半導體器材專家
首頁
+
關於我們
+
產品中心
半導體後道封測制程
超聲波掃描顯微鏡
高分辨率X射線檢測設備
熱變形外貌檢測儀
全自動條帶研磨系統
光學輪廓儀
臺階儀
原子力顯微鏡 (AFM)
傅氏轉換紅外光譜分析儀(FTIR)
X射線熒光光譜分析儀(XRF)
x射線衍射分析儀(XRD)
納米壓痕/納米力學測試/
摩擦磨損測試/機械性能測試
TriboLab CMP 材料測試儀
自動光學檢測AOI系統
自動晶圓貼標機
自動曲線追蹤儀
等離子及化學開封機
自動塑封開封機
高分辨率脈沖時域反射計 (TDR)/透射計(TDT)
自動晶圓光學檢測
(Wafer AOI)系統
除錫球機
晶圓原位對準鍵合機
恒溫恒濕箱/HAST
晶圓/基板/光罩清洗機
光阻顯影機/蝕刻剝離機/
光阻剝離機
濕法蝕刻設備
紫外臭氧清洗機
紫外線擦除器
可焊性測試儀
高低溫沖擊測試
矽材料/矽產品/半導體專用膠帶
矽材料/矽產品/半導體專用膠帶
矽材料/矽產品/半導體專用膠帶
半導體前道晶圓制程
超聲波掃描顯微鏡
光刻膠
光刻膠幹膜
自動晶圓光學檢測
(Wafer AOI)系統
光學輪廓儀
臺階儀
原子力顯微鏡 (AFM)
傅氏轉換紅外光譜分析儀(FTIR)
X射線熒光光譜分析儀(XRF)
x射線衍射分析儀(XRD)
納米壓痕/納米力學測試/
摩擦磨損測試/機械性能測試
TriboLab CMP 材料測試儀
磁控濺射機/熱蒸鍍
等離子體線性離子束專利
熱變形外貌檢測儀
晶圓原位對準鍵合機
光刻膠幹膜
晶圓/基板/光罩清洗機
光阻顯影機/蝕刻剝離機/
光阻剝離機
紫外臭氧清洗機
紫外線擦除器
噴墨塗布機
光功率計儀
曝光機
自動晶圓貼標機
濕法蝕刻設備
黃光塗佈顯影設備
曝光機
高效粒子監測
光學光電子
蒸/濺鍍系統
銦沈積
信號發生器 (延遲/脈沖發生器)
頻譜分析儀
信號模塊
角分辨光譜儀
共焦顯微拉曼光譜儀
超表面光場檢測系統
太赫茲光譜/成像系統
激光功率器/ 能量檢測器
激光光束診斷
高功率檢測器/衍射光學器件
光學輪廓儀
臺階儀
原子力顯微鏡
(AFM & AFM IR)
傅氏轉換紅外光譜分析儀(FTIR)
X射線熒光光譜分析儀(XRF)
x射線衍射分析儀(XRD)
納米壓痕/納米力學測試/
摩擦磨損測試/機械性能測試
TriboLab CMP 材料測試儀
活體多光子顯微鏡
超高分辨率顯微鏡
激光共聚焦顯微鏡
光電探測器
中階梯光譜儀
+
應用領域
+
最新消息
+
獎項
+
展會資訊
+
人才招募
+
聯絡我們
+
首頁
應用領域
應用領域
X
.png)
.png)
.png)
