Nou

RF 射頻等離子清洗/鍍膜系統

ION 40 氣體等離子清洗系統

全功能的等離子表面處理！

ION 300 氣體等離子清洗系統

迎合高產量需求!

• 臺式設計，靈活的電極設計，改進工藝的一致性

• 工業應用計算機配Windows®系統

• GUI 圖形用戶界面與大觸屏軟件寫入Semi E95-1101和第二部分的 FDA CFR，#21 • 配驅動程式

• 自行診斷功能和圖形

• Ethernet 以太網通信

• 節能控制功能

• 備用氣體選擇

• 安裝容易，即插即用

• 配置室可容納大批量組件處理或獨特的懸掛式導管加工各種電極配置

• GUI 圖形用戶界面軟件符合 CFR 第21部分11和 Semi E95-1101

• 板載氣體發生器封裝選項

• 工業應用計算機配Windows®系統

• 用戶可單獨操作程序進程和維護

• 配置過程可準確控制 Lot-to-Lot. 重複性

• 通過Ethernet控制數據及進行監控

• 具即時診斷功能和警報記錄

• LCD 液晶顯示器，觸屏和鍵盤

ION 100 氣體等離子清洗系統

爲各種應用設計的靈活氣腔體！

• 靈活的快速更換電極和腔體的選擇

• 板載氣體發生器封裝選項

• 節能控制功能，擁有成本最低

• 配置室可容納各種電極結構的小型複雜三維零件或高容量的大型零件加工

• GUI 圖形用戶界面軟件符合CFR第21部分11和Semi E95-1101

• 配方驅動的過程

• Ethernet 以太網通信

• 自行診斷功能和圖形

• LCD 液晶顯示器，觸摸屏和鍵盤

IoN 100T Tumbler Plasma Systems

IoN Optimus 100

美國 PVA Tepla - RF 射頻等離子清洗/鍍膜系統

查詢

收藏對比